一步步到今日跻身一线大厂、主导业界规格!
林本鉴在IMB取得了很多成就,有着众多发明,是微光领域的专家。
可因为研发方向是深紫极光,跟IMBX激光主流研发方向不同,受到公司上下的排挤。
可林本鉴即便是跟老板说,给深紫激光X激光一半的研发费用,我能给你带来十倍的研发成果,可依旧没有被通过。
每当开技术会的时候,都是林本鉴一个人对着整个X光小组。
正因如此,邵龙才觉得,目前才是挖走林本鉴最好的时机!
因为此时的林本鉴正心灰意冷,再过几年就会离开奋斗了半辈子的IMB,去独自创业,最后携家带口去弯积电,发布了世界上第一台浸润式微影技术光刻机。。。。。。
这种浸润式区别于此前技术。
在浸润式光刻机推出之前,业界采用的全都是干式光刻机,
使用的介质为空气,原理是通过用193nm波长的光线,直接进行光刻。
但是在光刻机采用193nm波长后,芯片工艺达到了65nm了。
想要更进一步,就需要将芯片工艺达到45nm精度,然而使用193nm的光线,并不能进行精细光刻,所以业界打算光刻的光线直接改成157nm的波长。
可这种波长的光线,穿透率很差,需要光罩材质进行改进,镜头技术也需要升级。
另外空气中的氧气会吸收157纳米的光,造成严重干扰。
所以干式介质中,不能有氧气,要采用氮气。
可使用氦气也有产生一系列的麻烦。
但林本鉴经过多年的试验,有了一些心得,他觉得既然干式介质不好用,那何不试试其他介质?
经过大量的实验研究,林本鉴发现193nm波长的光线经过水折射后,波长变为132nm了。
直接跳过了157nm这个不可用波长。
这无异于是阿基米德在水里发现了浮力原理,林本鉴也发现了水作为介质的可能性!
“有把握能挖到他吗?”
邵龙沉声问道,他对于方博然的办事能力很放心。
能够在面试之前,就能搞到其他通过海选人选的资料,这个猎头的活,交给他准没错。